SWE減速機(jī)使用因素資料有哪些？
SWE減速機(jī)輸出軸使牙輪副彼此耦合，以至齒面上設(shè)色蹤跡充足的出現(xiàn)進(jìn)去。
當(dāng)各族辦法內(nèi)定的后果沒有分歧時，以正在額外負(fù)荷和額外轉(zhuǎn)速的環(huán)境下用光澤法內(nèi)定的數(shù)值為準(zhǔn)。
細(xì)微制動光澤法
5內(nèi)定辦法
接觸斑點(diǎn)用設(shè)色法內(nèi)定時，采納CT-1、CT-2或者其余相符牙輪接觸精密度測驗(yàn)規(guī)則的地膜涂料。
加載攀動耦合設(shè)色法
將拆卸*的加速器牙輪面擦洗腌臜后，正在小牙輪約三分之一輪齒(沒有少于5個齒)的齒面上，勻稱的涂以恰當(dāng)薄厚的CT-1、CT-2或者其余相符牙輪接觸精密度測驗(yàn)規(guī)則的地膜涂料，攀動輸出軸使牙輪副彼此耦合，以至齒面上設(shè)色蹤跡充足的出現(xiàn)進(jìn)去。
SWE減速機(jī)的接觸斑點(diǎn)答應(yīng)按GB/T10095中的規(guī)則值升***;采納加載內(nèi)定時，沿齒長位置的接觸斑點(diǎn)應(yīng)按GB/T10095中的規(guī)則值進(jìn)步**。
采納設(shè)想齒形和設(shè)想齒向線時，對于接觸斑點(diǎn)的散布地位及大小可正在圖樣或者技能資料中自行規(guī)則。
圓柱牙輪加速機(jī)接觸斑點(diǎn)的內(nèi)定辦法
2.接觸斑點(diǎn)用設(shè)色法內(nèi)定時，采納CT-1，CT-2或者其它相符牙輪接觸精密度測驗(yàn)規(guī)則的地膜涂料。
圓柱牙輪加速機(jī)接觸斑點(diǎn)的內(nèi)定環(huán)境
。但攀動小牙輪沒有得轉(zhuǎn)過一圈。
采納光澤法內(nèi)定時，以小牙輪齒面上接觸擦亮蹤跡為準(zhǔn);采納設(shè)色法內(nèi)定時，以小牙輪齒面上涂料被粘去的蹤跡或者大牙輪面上接觸設(shè)色蹤跡為準(zhǔn)，并取內(nèi)中蹤跡小的一度齒評定接觸斑點(diǎn)值。
內(nèi)定環(huán)境
SWE減速機(jī)加載攀動耦合設(shè)色法：按4的規(guī)則，正在輸入軸上強(qiáng)加的負(fù)荷沒有超越額外值的環(huán)境下停止。
艦載攀動耦合設(shè)色法
將拆卸*的加速器內(nèi)腔蕩滌腌臜后，裝置正在加載跑合測試臺上，注入過量的光滑油，正在強(qiáng)加沒有超越額外負(fù)荷和沒有超越額外轉(zhuǎn)速的環(huán)境下正、反運(yùn)行5～30min，答應(yīng)分級加載，但歷次運(yùn)行沒有得超越10min，以能區(qū)分接觸擦亮蹤跡為準(zhǔn)。
將拆卸*的加速器安頓正在存正在加載跑合的測試臺或者正在拆卸陽臺上停止接觸斑點(diǎn)的內(nèi)定。
艦載跑合光澤法
將拆卸*的加速器內(nèi)腔蕩滌腌臜后，正在輸入軸端強(qiáng)加沒有超越額外負(fù)荷的10%作為細(xì)微制動轉(zhuǎn)矩，正在沒有超越額外轉(zhuǎn)速環(huán)境下正、反各運(yùn)行沒有少于30min，使其正在兩側(cè)任務(wù)齒面上接觸擦亮蹤跡充足的出現(xiàn)進(jìn)去。
2.艦載跑合光澤法：使拆卸*的加速機(jī)內(nèi)腔蕩滌腌臜后，正在沒有加載和沒有超越額外轉(zhuǎn)速的環(huán)境下正反各運(yùn)行沒有少于30秒鐘，使其正在兩側(cè)任務(wù)齒面上接觸擦亮蹤跡充足的出現(xiàn)進(jìn)去。
3.加載跑合光澤法：將拆卸*的加速機(jī)內(nèi)腔蕩滌腌臜的裝置正在加載跑合測試臺上，注入過量的光滑油，正在強(qiáng)加沒有超越額外負(fù)荷和沒有超越額外轉(zhuǎn)速的環(huán)境下正反轉(zhuǎn)各運(yùn)行5~30min，答應(yīng)分級加載，但歷次運(yùn)行沒有得超越10min，以能區(qū)分接觸擦亮蹤跡為準(zhǔn)。
加載跑合光澤法
使拆卸*的加速器內(nèi)腔蕩滌腌臜后，正在沒有加負(fù)荷和沒有超越額外轉(zhuǎn)速的環(huán)境下正、反各運(yùn)行沒有少于30min，使其正在兩側(cè)任務(wù)齒面上接觸擦亮蹤跡充足的出現(xiàn)進(jìn)去。
接觸斑點(diǎn)的散布地位應(yīng)趨近齒面中部，齒頂和兩端部棱邊處沒有答應(yīng)接觸。但攀動小牙輪沒有得轉(zhuǎn)過一圈。
1.細(xì)微制動光澤法：將拆卸*加速機(jī)內(nèi)腔蕩滌腌臜后，正在輸入軸端強(qiáng)加沒有超越額外負(fù)荷的10%作為細(xì)微制動轉(zhuǎn)矩，正在沒有超越額外轉(zhuǎn)速的環(huán)境下正，反各運(yùn)行沒有必于30min使其正在兩側(cè)任務(wù)齒面上接觸擦亮蹤跡充足地出現(xiàn)進(jìn)去。
